Intranasal Treatment Device
Patent, BÖLÜM C Kimya; Metalürji, Buluşun Tescil No: JP7573911B2 , Standart Tescil, 2024, Tescil Edildi
- Fikri Mülkiyet: Patent
- Başvuru Yapılan Ülke/Kuruluş: Japonya
- Buluşun Durumu: Tescil Edildi
- Başvuru Tarihi: 1.01.2024
- Tescil Tarihi: 10.09.2024